在光學儀器、激光技術、顯示設備等領域，光柵作為核心光學元件，其精度直接決定了設備的性能上限。光柵加工工藝通過對基底材料進行精密刻劃或成型處理，構建周期性的光學結構，實現光的衍射、分光與調制功能。隨著光學技術向高精度、微型化發展，光柵加工工藝已成為衡量光學制造水平的關鍵指標，廣泛支撐著光學設備的研發與生產。?

　　光柵加工工藝的核心是在玻璃、金屬或聚合物基底上形成周期性的溝槽結構，根據加工原理可分為“機械刻劃法”“全息光刻法”“復制成型法”三大主流技術路徑，各有適用場景與技術特點。機械刻劃法是傳統的高精度加工工藝，通過金剛石刻刀在基底表面進行周期性刻劃，刻劃精度可達納米級。其核心流程包括基底預處理、刻刀校準、分步刻劃及后處理，適用于制造光柵常數小、精度要求高的衍射光柵，如光譜儀中的分光光柵。但該工藝效率低，且刻刀磨損會影響一致性，多用于科研級光柵制造。?
 

　　全息光刻法基于光的干涉原理，通過兩束相干激光在涂覆光刻膠的基底上形成干涉條紋，經曝光、顯影后得到周期性溝槽結構。該工藝無需機械接觸，可一次性形成大面積光柵，效率遠高于機械刻劃法，且溝槽均勻性好，適用于制造光柵常數較大的透射光柵，如激光雷達的光束整形光柵。其技術關鍵在于控制激光相干性、干涉角度及曝光劑量，確保溝槽深度與形狀的一致性。復制成型法則是工業化生產的主流工藝，以高精度母光柵為模板，通過注塑、壓印等方式將結構復制到聚合物或金屬箔材上，包括模板制備、基底注塑/壓印、脫模及后處理等步驟。該工藝成本低、效率高，但精度受母光柵限制，適用于消費電子領域的低精度光柵。?

　　光柵加工工藝的技術難點集中在“精度控制”與“一致性保障”兩大方面。無論是機械刻劃的刻刀軌跡控制，還是全息光刻的干涉條紋穩定性，抑或是復制成型的模板貼合度，都需要高精度設備支撐——如機械刻劃需配備納米級精度的空氣靜壓導軌與伺服控制系統，全息光刻需采用穩頻激光器與防震平臺。同時，基底材料的選擇也至關重要：光學玻璃因硬度高、熱穩定性好，常用于高精度光柵；聚合物則因易成型，適用于低成本、大批量生產的光柵。?

　　在應用場景中，不同加工工藝制造的光柵各司其職。機械刻劃的高精度光柵用于天文光譜儀、激光核聚變裝置，助力天體物理研究與高能物理實驗；全息光刻的大面積光柵用于激光投影設備、AR眼鏡的光波導，實現高效光傳輸；復制成型的低成本光柵則廣泛應用于條形碼掃描器、安防監控的紅外光柵等民用領域。