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GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面積納米壓印模具通過(guò)步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。

GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備。通過(guò)簡(jiǎn)單的夾具更換，可以實(shí)現(xiàn)旋涂壓印膠高精度納米結(jié)構(gòu)壓印和點(diǎn)膠大矢高結(jié)構(gòu)自動(dòng)找平壓印模式之間的快速切換。

GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級(jí)光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，標(biāo)配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)200mm基底面積上高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。

GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。

UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單、功能強(qiáng)大的臺(tái)面型納米壓印光刻設(shè)備。可實(shí)現(xiàn)4英寸以下基底面積上高精度（優(yōu)于10nm * ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 * ）納米結(jié)構(gòu)壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發(fā)，器件原型快速驗(yàn)證，納米壓印材料測(cè)試等研發(fā)。

GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備產(chǎn)能可大于40片每小時(shí)，適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)。

GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。