GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備

產(chǎn)品型號：

簡要描述：GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。

廠家實力
Manufacturer Strength
有效保修
Valid Warranty
質(zhì)量保障
Quality Assurance

產(chǎn)品咨詢

聯(lián)系我們

產(chǎn)品中心

PRODUCT CATEGORY

相關(guān)文章

詳細(xì)介紹

GL300 MLA是天仁微納新型專門為晶圓級光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備，可在200/300 mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備支持cassette to cassette自動上下片、自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，工作模具自動更換。整個工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進(jìn)行，以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。內(nèi)置的高精度自動點膠系統(tǒng)、APC（主動模具基底平行控制）技術(shù)、以及自動脫模功能都保證了大面積晶圓級光學(xué)生產(chǎn)的精度、均勻性（TTV）與良率。同時，自動模具基底對位系統(tǒng)還可實現(xiàn)晶圓之間對位堆疊工藝（WLS-Wafer Level Stacking）。

GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。

主要功能

● 全自動200/300mm晶圓級光學(xué)加工（WLO）生產(chǎn)線
● APC主動模具基底平行控制技術(shù)，確保大面積晶圓壓印TTV均勻性
● Cassette to cassette自動上下片，光學(xué)巡邊預(yù)對位
● 設(shè)備內(nèi)自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，同時支持自動更換工作模具，適合連續(xù)生產(chǎn)
● 內(nèi)置高精度自動點膠功能
● 自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中自動進(jìn)行，以保證壓印質(zhì)量
● 標(biāo)配高功率紫外LED面光源（365nm，光強(qiáng)>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
● 隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料，包括標(biāo)準(zhǔn)示范WLO等工藝流程，幫助客戶零門檻達(dá)到國際的納米壓印水平

設(shè)備照片

相關(guān)參數(shù)

兼容基底尺寸	200mm、300mm 特殊尺寸可定制
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
上下片方式	Cassette to cassette全自動上下片
晶圓預(yù)對位	光學(xué)巡邊預(yù)對位
納米壓印技術(shù)	APC主動平行控制技術(shù)，適合大面積WLO、WLS等工藝
壓印精度	可小于10納米*
結(jié)構(gòu)深寬比	優(yōu)于10比1*
TTV控制	微米級精度（200 /300 mm晶圓）
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光強(qiáng)>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配）
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制	標(biāo)配，外部環(huán)境Class 100，內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10*
自動壓印	支持
自動脫模	支持
自動工作模具復(fù)制	支持
自動工作模具更換	支持
模具基底對位功能	支持

產(chǎn)品咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補充說明：
驗證碼：

請輸入計算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：沒有了
下一篇：GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備

GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備

主要功能

設(shè)備照片

相關(guān)參數(shù)

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補充說明：

驗證碼：